在激光微加工领域,超短脉冲的非衍射光束(如贝塞尔光束)因具备传播不变的强度光束结构、自修复特性及抗非线性传播干扰能力等特点,已成为透明材料(尤其是玻璃)内部刻划切割的关键技术。当前工业对玻璃制品的复杂度、微型化及加工质量要求不断提升,现有技术多依赖空间或时间脉冲整形技术去优化刻划效果,而光的另一重要调控维度 ——偏振,对透明材料的切割刻划也非常关键。
近日,Juozas Dudutis等人发表了《Polarization-Dependent Laser-Assisted Cutting of Glass Using a Nondiffractive Beam in the MHz Burst Regime》文章,研究了线偏振与圆偏振在 MHz Burst模式下,对零阶贝塞尔光束刻划钠钙玻璃的改性、微裂纹取向、分离效率及切割质量的影响,填补了 “非衍射光束 + 偏振调控” 在玻璃切割领域的研究空白,为高效、高质量玻璃加工提供了新的技术路径。
实验系统设计与参数 激光器采用的为FemtoLux 30(立陶宛,EKSPLA),中心波长 1030 nm,脉冲宽度≈1 ps,输出为线偏振;MHz Burst模式:单脉冲串包含 10 个子脉冲,子脉冲间隔为20 ns(脉冲串内重复频率50 MHz),脉冲串重复频率为20 kHz。零阶轴棱锥(Thorlabs AX255-C,锥角5°)生成零阶贝塞尔光束,通过4f(f分别为100mm,10mm)系统进行压缩空间范围,光路中通过半波片和1/4波片进行调控激光的偏振态(线偏振方向和圆偏振光)。在空气中测量的非衍射光长度约为1.1mm(在材料由于折射率变化,聚焦长度会增加),光斑中心直径(FWHM)约为1.0±0.1um,半锥角为22±2°,在不同偏振态情况下光斑中心始终保持旋转对称结构。如图1所示。 图1.(a)实验装置;(b)MHz Burst的时间分布;(c)在空气中测量的轴向和横向的光斑分布图;(d)沿激光传播方向测量的光斑中心直径分布。 实验方案设计与表征手段 主要设计两类实验,结合多维度的表征方法,研究偏振的调控作用。 1)探究偏振对微裂纹取向、长度及改性区域形态的影响。通过光学显微镜(Nikon Eclipse LV100NDA,50× 物镜,NA=0.8)观测微裂纹角度与横向长度;通过扫描电子显微镜(Thermo Fisher Prisma E),分析改性区域精细结构(样品经机械研磨抛光、5% 氢氟酸蚀刻 30 s、10 nm金镀膜处理)。 2)探究偏振对玻璃分离应力及侧壁质量的影响。通过四点弯曲实验(Alluris FMI-B50C1力传感器)来测量玻璃分离应力;通过光学轮廓仪(Sensofar S neox,共聚焦模式)测量侧壁粗糙度。 实验结果 1. 偏振对微裂纹取向的调控作用
图2. 不同Burst能量和偏振态下的裂纹状态。(a)未处理的光学显微镜成像;(b)抛光,蚀刻处理后得SEM图。
图3. 偏振辅助控制裂纹。(a)不同线偏振角度以及95uJ和177uJ Burst能量下的裂纹光学显微成像图;(b)抛光,蚀刻处理后的SEM图;(c)不同线偏振角度和Burst能量下的裂纹角度和长度。 实验证明偏振调控裂纹高度的依赖Burst能量,具有明显的能量阈值效应。在95uJ Burst能量下,线偏振的方向完全可以控制微裂纹方向,微裂纹沿偏振方向进行排列,且随着偏振角度的旋转裂纹方向呈现线性变化,而圆偏振下微裂纹取向混乱,无明显方向性;在177uJ Burst能量下,偏振调控作用减弱,微裂纹与偏振夹角增大,能量继续增加到540uJ Burst时,偏振完全失去调控作用。实验还测量了单脉冲(无脉冲串)的影响,微裂纹更小且无法通过偏振控制,这是因为MHz Burst的脉冲间隔为(20 ns)远短于玻璃热弛豫时间(≈μs级),实现热积累与缺陷叠加,放大偏振诱导的不对称性;单脉冲因强度过高,易引发旁瓣干扰与非线性效应,破坏偏振调控。 2. 偏振对玻璃分离效率的影响 图4. 偏振对分离效应的影响。(a)和(b)是在Burst 能量为95 uJ,(c)和(d)是在Burst能量为180 uJ,分别测量了不同点间距下偏振方向分别为垂直,水平和圆与分离应力的关系,其中(b)是线偏振与刻划角度对分离应力的影响,(d)垂直和水平偏振下裂纹的光学成像图。 玻璃刻划后通过CO2激光器进行分离,玻璃的分离效率主要取决于分离应力,应力越小,越容易分离,如图4 结果显示: 低能量刻划(95uJ Burst,属于偏振可控范围) 1)线偏振方向平行与刻划方向时,分离应力显著降低在p(pitch,点间距)=4um,应力为15±1MPa,且允许更大的刻划间距(p≤10um时候仍然可以稳定分离);线偏振方向垂直与刻划方向时,只有在p≤2um的时候才可分离,且应力达到60MPa,容易出些崩边现象。 2)偏振角度的影响,当偏振方向与刻划偏差在-4°~10°范围内,分离应力保持低水平,超出这个范围应力将急剧增大。 3)圆偏振的分离应力介于平行偏振和垂直偏振之间。 高能量刻划(180uJ Burst,属于偏振非可控范围) p≤3um时,所有偏振态都可以分离,应力大且基本无差异,p≥4um时,线偏振方向与刻划方向平行任然是最优的,p=7um时,分离应力低至7.3±0.1MPa。 3. 偏振对切割质量的影响 图5. 偏振对切割质量的影响。(a)和(c)分别在Burst 能量为95uJ和180uJ下,不同偏振状态和点间距下的侧壁粗糙度,(b)是线偏振角度对侧壁粗糙度的影响。 图6 不同偏振态,Burst能量和点间距下对表面粗糙度Sa的影响。 切割质量主要评估切割侧壁粗糙度Ra/Sa和表面崩边效果,如图5,6结果所示: 低能量刻划(95uJ Burst,属于偏振可控范围) 线偏振平行与刻划方向时,侧壁粗糙度最优,均匀性高(Sa≈Ra),p=5um时Ra=0.35±0.04um;垂直偏振和圆偏振状态的时候侧壁粗造度Ra显著更高,且表面有崩边。 高能量刻划(180uJ Burst,属于偏振非可控范围) 低间距p=1um时,所有偏振状态Ra低(0.11~0.15 um),但Sa高(0.29~0.55um),侧壁均匀性差;高间距p=7um时,平行偏振 / 圆偏振最优 ——Ra<0.7 μm,Sa≈Ra,侧壁均匀,垂直线偏振 Ra 接近 1 μm,质量最差。 总结: 在MHz Burst下,线偏振可精准控制玻璃微裂纹取向,且线偏振方向与刻线平行时具有低分离应力和高质量切割特点。通过简单的偏振调控,即可在保证切割质量的同时提升效率,对消费电子(如手机玻璃盖板)、光学器件(如透镜切割)等领域的微加工技术升级具有重要指导意义。以及未来可以进一步探究GHz脉冲串,脉冲数量,能量分布等对偏振调控的影响,甚至加入空间光调制器实现动态的调节控制。
免责声明:文章转载自网络,仅供行业学习交流之用,侵删